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集成电路ETF(159546)收涨1.2%,半导体设备需求增长获关注

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集成电路ETF(159546)收涨1.2%,半导体设备需求增长获关注。 爱建证券指出,半导体设备领域薄膜沉积设备在前道工艺中价值量占比高(约22%),是晶圆扩产的核心设备之一,受新产线建设与既有产能扩充双重拉动,需求 ...

集成电路ETF(159546)收涨1.2%,半导体设备需求增长获关注。

爱建证券指出,半导体设备领域薄膜沉积设备在前道工艺中价值量占比高(约22%),是晶圆扩产的核心设备之一,受新产线建设与既有产能扩充双重拉动,需求有望持续增长。全球300mm晶圆厂投资预计2025年增长20%至1165亿美元,中国大陆2025年-2027年年均投建规模有望保持在300亿美元以上。中国厂商加速布局,如拓荆科技拟提升PECVD等设备产能,微导纳米的ALD与高端CVD产品已切入国产存储头部客户量产线,逻辑领域设备性能达国际先进水平。半导体行业产能扩张将带动薄膜沉积设备需求上行。

集成电路ETF(159546)跟踪的是集成电路指数(932087),该指数从市场中选取涉及半导体设计、制造、封装测试及相关设备材料等业务的上市公司证券作为指数样本,以反映集成电路行业相关上市公司证券的整体表现。该指数成分股具备高技术壁垒和成长性特征,侧重于科技创新与高端制造领域配置,能够较好地体现中国集成电路行业的发展趋势。

注:如提及个股仅供参考,不代表投资建议。指数/基金短期涨跌幅及历史表现仅供分析参考,不预示未来表现。市场观点随市场环境变化而变动,不构成任何投资建议或承诺。文中提及指数仅供参考,不构成任何投资建议,也不构成对基金业绩的预测和保证。如需购买相关基金产品,请选择与风险等级相匹配的产品。基金有风险,投资需谨慎。


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